刘全龙，男，汉族，1977年11月生，博士，副教授，硕导。第二届中国光学学会光学教育专业委员会委员。主要承担《光电子技术》等课程的教学工作。

研究方向：微纳米薄膜及器件

近五年来，参与国家自然科学基金3项，发表论文近10篇，其中被SCI、EI收录5篇。

主要参与的项目：

1、位错与微裂纹周围纳观变形场的定量高分辨电子显微分析,国家自然科学基金

2、基于电子束云纹、纤维推出技术的界面力学测试仪器的研制,国家自然科学基金

3、动态裂纹尖端变形场的多尺度原位电子显微镜研究,国家自然科学基金

主要发表的论文：

1、Quantitative strain analysis of misfit dislocations in a Ge/Si heterostructure interface by geometric phase analysis，OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING，2012,volume: 50 issue: 5 page: 796-799 （SCI)

2、NANOSCALE DEFORMATION ANALYSIS OF TWIN BOUNDARY DISLOCATIONS IN NANOCRYSTALLINE ALUMINUM，MODERN PHYSICS LETTERS B，2012,volume: 26 issue: 27 page: 1250181-1-1250181-7（SCI)

3、Strain Field Mapping of Dislocations in a Ge/Si Heterostructure，PLOS ONE，April 2013,volume 8,issue 4,e62672（SCI)

4、(Al, Ga, In)和2N择优位向重共掺对ZnO导电性能影响的研究，物理学报 Acta Phys. Sin，Vol. 63, No. 5 (2014) 057101（SCI)

5、First-principle study of the electronic structure and optical property of Nb-doped anatase TiO2，International Journal of Modern Physics B，Vol. 28 (2014) 1450091 （SCI)